Der Unterschied zwischen sauerstofffreiem Kupfer, sauerstoffarmem Kupfer und elektrolytischem Kupfer:
1. Reinheit: Sauerstofffreies Kupfer: Extrem rein, typischerweise mit einem Sauerstoffgehalt unter 20 ppm, minimalen Verunreinigungen und einem Kupfergehalt von über 99,99 %. Sauerstoffarmes Kupfer: Der Sauerstoffgehalt liegt im Allgemeinen bei etwa 200-400 ppm, etwas geringere Reinheit als sauerstofffreies Kupfer. Elektrolytisches Kupfer: Höhere Reinheit, erreicht 99,95 %-99,98 %, enthält aber immer noch eine gewisse Menge an Sauerstoff und anderen Verunreinigungen wie Blei, Bismut und Antimon.
2. Herstellungsprozess: Sauerstofffreies Kupfer: Typischerweise hergestellt durch das Top-Draw- oder kontinuierliche Gieß- und Walzverfahren, wobei der Sauerstoffgehalt während der Produktion streng kontrolliert und spezielle Schmelzanlagen und -verfahren eingesetzt werden, um die Reinheit und Leistung des Kupfers zu gewährleisten. Sauerstoffarmes Kupfer: Typischerweise hergestellt durch das kontinuierliche Gieß- und Walzverfahren, mit relativ lockerer Kontrolle des Sauerstoffgehalts während der Produktion. Zielgerichtete Leistungsanforderungen werden durch kontrollierten Sauerstoffgehalt während des Schmelzprozesses und den Einsatz von Zusatzstoffen erreicht. Elektrolytisches Kupfer: Hergestellt durch elektrolytische Raffination, wobei Rohkupfer als Anode und reines Kupfer als Kathode verwendet wird, findet die Elektrolyse in einem Kupfersulfatelektrolyten statt. Verunreinigungen im Rohkupfer werden während des Elektrolyseprozesses entfernt, was zu hochreinem elektrolytischem Kupfer führt.